(4)二氧化硅是硅的一种化合物,硅单质及其化合物的用途极其广泛,制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:①写出由SiHCl3制备高纯硅的反应方程式:.②在制粗硅的反应中,焦炭的作用是.
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