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【(4)二氧化硅是硅的一种化合物,硅单质及其化合物的用途极其广泛,制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:】
更新时间:2024-05-11 12:48:21
1人问答
问题描述:

(4)二氧化硅是硅的一种化合物,硅单质及其化合物的用途极其广泛,制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:①写出由SiHCl3制备高纯硅的反应方程式:.②在制粗硅的反应中,焦炭的作用是.

蒋俊树回答:
  SiHCl3+H2=高温=Si+3HCl焦炭的作用是当还原剂
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